Näita mobiiliversiooni

Liigu sisu juurde Liigu peamenüü juurde

Avaleht / Raamatud / Tehnika / Varia / Plasma Etching Processes for Cmos Devices Realization

Raamat

Plasma Etching Processes for Cmos Devices Realization

Autor: Nicolas Posseme

* * * * * * * * * * Hinda ja arvusta (0)

71.77 68.18 €Peagi läbi müüdud!

Kaup kätte: 2-4 nädalat (tellime välismaalt), hiljemalt 29.03

Sisukirjeldus

Lisainfo
ISBN 9781785480966
Keel ingliskeelne
Formaat Kõvakaaneline
Mõõt 229x152x17 (mm)
Kirjastus Elsevier Science & Technology
Lisamise aeg: 29.11.2016

71.77 68.18 €Peagi läbi müüdud!

Kaup kätte: 2-4 nädalat (tellime välismaalt), hiljemalt 29.03

Arvustused (0)
Suhtlusvõrkude arvustused

Vabandame! Teie veebilehitseja on liiga väike meie kodulehe külastamiseks.

We're sorry! Your browser is too small for this website.

Приносим извинения! Размеры вашего браузера слишком малы для посещения нашей страницы.